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美荷批中国光刻机!中方单挑27国胜?

发布日期:2025-11-23 07:04点击次数:126

安世半导体两难处境

安世半导体目前似乎正面临一种“两难”的处境:一方面,荷兰政府出于对美国政策的配合,另一方面,中国股东则对此表示强烈不满与反对。

近期,安世半导体针对中国市场采取了第二轮“应对措施”,而其在中国的运营方则以实际行动表明,荷兰政府和欧盟此举实属自讨苦吃。

“1对27国”的局面

众所周知,10月29日,荷兰芯片制造商安世半导体向客户发出通知,宣布自10月26日起暂停向其位于中国的装配工厂供应晶圆。公司给出的理由是,当地管理层未能按照合同规定履行付款义务。

表面上看,这是一次企业层面的决策,但实际上,这是荷兰政府在配合美国施压下所采取的一种强制性行为。

荷兰之所以敢于如此行事,一方面源于美国的支持与压力,另一方面则是基于自身实力的误判。

我们清楚地记得,在9月底,美国发布了新的出口管制规则,随后荷兰政府便以“国家安全”为由,强行介入由中国控股的安世半导体事务。

荷兰政府或许认为,美国的背书能够为其提供一定的政治和外交保护,然而,这种做法却使其深陷中美之间复杂博弈的漩涡之中。

荷兰对华半导体政策受挫

荷兰政府之所以采取如此强硬的举措,很大程度上是基于其在半导体领域,尤其是阿斯麦(ASML)所拥有的全球领先地位,认为可以借此对中国半导体产业施加影响。然而,他们显然高估了美国的支持力度,也低估了中国在维护自身利益方面的坚定立场和强大实力。

在中美两国尚未举行吉隆坡与釜山会晤之前,荷兰政府对安世半导体(Nexperia)中国的相关行为,被视作美方在与中国进行磋商时的重要谈判工具。然而,随着两次会晤的结束,双方达成重要共识,其中明确提到“美方将暂停实施出口管制中50%穿透性规则一年”。这一决定无疑让荷兰政府陷入被动局面。

尽管荷兰方面坚称其对安世半导体的处理并非出于外部压力,但法院文件显示,美国曾向荷兰施压,要求其更换公司管理层,否则该公司可能面临被列入实体清单的风险。这一事实使得荷兰政府的立场显得颇为尴尬。

荷兰对美立场调整

自中美高层会晤取得一定成果后,荷兰政府对美国的立场或将有所调整,原本计划在短期内实施的限制措施将被推迟一年。至于未来一年后的发展走向,则取决于届时中国在相关领域的应对与博弈能力。

值得注意的是,尽管荷兰方面曾以中断对中国晶圆供应作为“报复”手段,但这一举措实际上并未对中国市场造成实质性影响。相反,安世半导体中国迅速发布公告称,公司早已储备充足库存,可确保供应稳定至年底,甚至更长时间。同时,安世中国正加快研发新产能,力争在明年实现部分关键环节的国产替代。

此外,原本对荷兰政府行为持观望态度的欧盟,也逐渐开始对荷兰的政策表示质疑,并对其做法进行约束与批评。这反映出欧洲内部在对华贸易和技术政策上的分歧正在加剧。

欧盟调查荷兰收购案

欧盟委员会依据《里斯本条约》对荷兰接管安世半导体的交易启动了调查程序,要求荷兰方面在11月10日前提交相关风险评估报告。欧盟指责荷兰此举有损内部市场的统一性。德国、法国、意大利等成员国对此表示支持,反映出欧盟对荷兰单方面行动的关切。

与此同时,多家德国汽车零部件企业正积极寻求中国对安世半导体芯片出口限制的豁免,希望借助政治渠道缓解当前的贸易紧张局势。全球领先的汽车零部件供应商——德国采埃孚公司表示,正在与中国相关部门密切合作,以保障芯片供应链的稳定。

芯片困局与中欧对话

荷兰政府对中资企业的限制措施,引发了一系列连锁反应,将众多全球汽车制造商推入了新的芯片供应困境。据美国咨询公司亚瑟·迪·里特尔合伙人克劳斯·施密茨表示,“最终,企业和政府都将不得不与中国展开对话。尽管具体影响尚待观察,但这一局势很可能变得相当严峻。”

值得注意的是,德国外长此前取消了原定的访华行程,但却随后主动致电中国,相较以往,此次沟通态度更为诚恳。然而,事出反常必有因,显然德国外长此举背后另有目的,而这一目的极有可能与德国汽车企业当前面临的芯片供应紧张、停工停产等困境密切相关。

从目前形势来看,欧盟原本试图支持荷兰的立场,但显然低估了中国在面对外部压力时所展现出的坚定态度和强大实力。即便面对欧盟27国以及背后推波助澜的美国,中国仍能从容应对,展现出强大的战略定力。

摆脱美国与荷兰的技术封锁,已成为全球半导体产业发展的新趋势。事实上,美国联合荷兰对中国实施的限制政策早在2023年便已启动。当时正值拜登政府在半导体领域加大对中国的遏制力度,同年3月,荷兰贸易部长在议会信函中宣布新的出口管制措施,针对包括深紫外光刻机在内的先进半导体设备,对华出口实施严格的审查程序。

半导体出口管制升级

对此,相关方面表示,此举旨在保障技术安全,防止关键核心技术被竞争对手获取。几乎在同一时期,美国商务部官员也在国会听证会上表达了支持态度。因此,荷兰政府于当年3月8日要求ASML对其特定型号的深紫外光刻系统向中国出口时,须事先获得相关许可。

此后,在2023年6月和9月,应美国要求,荷兰政府进一步扩大了对ASML向中国出口的管制范围,涵盖深紫外浸没式光刻系统以及相关的软件和维护服务,并要求出口方提交最终用户声明。

至2024年4月,美国再次敦促荷兰的ASML停止对中国境内所拥有的敏感设备进行维修。他们认为,通过这种逐步升级的限制与封锁措施,能够有效遏制中国在半导体产业的发展进程。

中国光刻机突破进展

2024年4月,阿斯麦(ASML)公布的第一财季财务数据显示,其营收与净利润均出现环比明显下滑,新增订单量也较上一季度下降超过60%,远低于市场预期,导致公司股价遭遇剧烈波动。

与此同时,尽管受到美国和荷兰在技术上的限制,中国本土企业上海微电子仍于2023年成功推出SSA600系列深紫外光刻机,具备处理28纳米工艺的能力。进入2024年后,已有超过300家企业开始尝试突破极紫外光刻(EUV)技术的壁垒。

尤为引人注目的是,中国光刻机领域涌现出一股新生力量——“希望之星”新凯来。这家成立不足五年的企业,以创新的技术路径实现了突破,绕开了传统的激光等离子体(LPP)方案,转而采用激光诱导放电等离子体技术,成功研发出能够生成极紫外光的设备。该技术在设计上更为简洁、结构更紧凑、能耗更低。虽然目前尚无法完全满足高端芯片制造的需求,但其发展已标志着中国在光刻机及半导体领域逐步摆脱对荷兰、美国技术依赖的趋势正在加速形成。

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